1 清洁除污
每件金属钣,上下两面,均要干净,除油,因为任何不洁表面均影响黏膜贴在金属之可靠性。
清洁后之金属两面再涂上防光黏膜剂 (Photo-resist)( 此光反应材料曝光于某光波段之光线中会塑性化,并产生对无机体溶液如酸液类防蚀作用 ) 。
防光黏膜剂可分为湿膜 (Wet-Resist) 和干膜 (Dry-Resist) 两种。湿膜可采用浸涤或喷洒方法涂于金属面上,干膜则可用黏贴方法贴于金属面上,通常干膜法是比较常被采用,因其较容易控制,在显影解像力及精密度效果是湿膜法较佳。
2 曝光
然后,双面蚀刻金属钣需小心夹放于两层照相负片 ( 光工具 ) 中,而单面蚀刻则需放于光工具之下。利用加压或抽真空把之夹紧,存放在适当光线中曝光,此举令曝露之黏膜塑化,黏膜对化学光 (ActinicLight) 是有反应,惟在黄色光线,反应甚微,曝光时间长短视乎光源强弱,黏膜剂种类等因素而定。
光工具工艺从用放大倍数比例绘制图案草稿开始,把尺寸准确校正,再缩回原比例,此举为便于控制尺寸精度,根据图样制造一底一面负片,再把金属钣牢牢夹于其中,若工件尺寸细小,要求在特定面积金属钣上蚀出若干件数时,可采用重迭排放机把影像重复摄制在负片上。至于上下负片如何保证绝对校正影像,便是此工艺之窍门。
3 显影冲洗
影像显影工作是通过浸涤或涂喷特定显影剂,显影剂把曝光部份之黏膜溶解,剩下塑化部份。
4 清洗
金属钣要用清洗方法除去显影剂渣宰,以保证蚀刻部份表面没存有黏膜。
5 烘干 :显影后之金属钣经第二次烘干。
6 蚀刻
金属钣放入蚀刻机中把显影后之部份蚀刻,塑化部份受保护,不获蚀刻。
腐蚀剂有多种种类,例如氯化铁,氢氟酸和水之混合物便是应付钢和合金铜的腐蚀剂,某些金属是需用碱性的腐蚀剂。
当金属面受蚀刻时,其黏膜边位置亦会稍微凹陷,故蚀刻出来之剪切边并不是百分一百垂直的。
由于上述原因,蚀刻后之尺寸是跟影像尺寸略有些微差别,外围尺寸缩而内围尺寸扩大,内尖角位置是会变成小圆角,这些毛病是要经过矫正后方后达至预期之精密度,另外矫正尺寸变化亦可在预留图案草稿中进行。当然,最重要因素还是倚靠累积经验,才能控制准确精密度。
7 剥脱 :黏膜剩余渣宰经蚀刻后用适当溶剂擦洗。
8 清洗 :工序至此大致上完成,再以水清洗。
9 晒干 :工件最后弄干,惟要注意避免遗留水痕。
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